Rivestitore a rotazione
Apparecchiature per la lavorazione dei fotoresist
Spinner di rivestimento per l'applicazione di nanofilm
Fotolitografia e applicazione di film polimerici sottili
Applicazione di film sottili mediante rivestimento a rotazione uniforme

Descrizione del prodotto:

Settore dei prodotti Qualtech Rivestitore a rotazione è un professionista Apparecchiature per l'applicazione di pellicole polimeriche per applicare uno strato sottile uniforme o uno strato polimerico ultrasottile sulle superfici dei campioni e sui substrati, compresi i wafer.

Il rivestimento a rotazione (spin coating) consiste nell’applicazione di una piccola quantità di campione liquido al centro del campione o del substrato, ad esempio un wafer. Inizialmente, quando si aggiunge il campione liquido, il wafer di solito è fermo oppure ruota a una velocità molto bassa. Dopo che il campione liquido è stato applicato sul wafer, la velocità di rotazione aumenta notevolmente per favorire la diffusione automatica del campione liquido dal centro verso l’intera superficie del wafer, in modo da creare un rivestimento uniforme.

Lo spessore del rivestimento applicato dipende da una serie di fattori, tra cui:

• la viscosità del campione liquido,
• la concentrazione del campione liquido,
• la velocità di rotazione del wafer.

Questo spin coater professionale è stato progettato e realizzato per offrire la più recente tecnologia dei microchip, abbinata a un ampio display touchscreen retroilluminato, un sistema di vuoto ad alta precisione, un motore di precisione ad alte prestazioni, accelerazione ad alta velocità, controllo continuo della velocità, sensori di precisione avanzati, funzioni di sicurezza integrate, controllo completamente automatico tramite programma con programmazione intuitiva, gestione intuitiva dei campioni, controllo continuo della velocità, elevata accuratezza e precisione, design ergonomico, prestazioni affidabili, lunga durata e molto altro ancora.

Questo avanzato Apparecchiature per il rivestimento a rotazione È consigliato per un'ampia gamma di substrati, tra cui wafer di silicio, wafer ceramici, pannelli di vetro e substrati affini, ed è ampiamente utilizzato per la realizzazione di film sottili e ultrasottili su scala nanometrica, compresa la fotolitografia.

Questo rivestitore rotante professionale è stato progettato e realizzato in conformità con gli standard internazionali di collaudo.