Spin-Coater
Photoresist-Verarbeitungsgeräte
Beschichtungsspinner für Nanofilm-Auftragung
Anwendung von Fotolithografie und dünnen Polymerfilmen
Gleichmäßige Aufbringung von Schleuderbeschichtungs-Dünnfilmen

Produktbeschreibung:

Qualtech-Produktindustrie Spin-Coater ist ein Profi Ausrüstung zum Aufbringen von Polymerfilmen zum Auftragen eines gleichmäßigen dünnen Films oder ultradünnen Polymerfilms auf Probenoberflächen und Substrate, einschließlich Wafer.

Schleuderbeschichtung ist das Auftragen einer kleinen Menge einer flüssigen Probe in der Mitte der Probe oder des Substrats, z. B. eines Wafers. Beim Zugeben der flüssigen Probe bewegt sich der Wafer zunächst normalerweise nicht oder dreht sich mit sehr geringer Geschwindigkeit. Nachdem die flüssige Probe auf den Wafer gegeben wurde, erhöht sich die Rotationsgeschwindigkeit auf ein sehr hohes Niveau, um dabei zu helfen, die flüssige Probe automatisch von der Mitte des Wafers über die gesamte Oberfläche des Wafers zu verteilen, um eine gleichmäßige Beschichtung zu erzeugen.

Die Dicke der aufgetragenen Beschichtung hängt von einer Vielzahl von Faktoren ab, darunter:

• die Viskosität der flüssigen Probe,
• die Konzentration der flüssigen Probe,
• die Rotationsgeschwindigkeit des Wafers.

Dieser professionelle Spin Coater wurde entwickelt und konstruiert und bietet die neueste Mikrochip-Technologie in Kombination mit einem großen Touchscreen-Display mit Hintergrundbeleuchtung, einem hochpräzisen Vakuumsystem, einem präzisen Hochleistungsmotor, Hochgeschwindigkeitsbeschleunigung, kontinuierlicher Geschwindigkeitsregelung, fortschrittlichen Präzisionssensoren und integrierten Sicherheitsfunktionen , Vollautomatische Programmsteuerung mit benutzerfreundlicher Programmierung, benutzerfreundlicher Probenhandhabung, stufenloser Geschwindigkeitsregelung, hoher Genauigkeit und hoher Präzision, ergonomischem Design, zuverlässiger Leistung, Langlebigkeit und vielem mehr.

Dies fortgeschritten Spin-Coating-Ausrüstung wird für eine breite Palette von Substraten empfohlen, darunter Siliziumwafer, Keramikwafer, Glasscheiben und verwandte Substrate, und wird häufig zur Herstellung von dünnen und ultradünnen Filmen mit einer Dicke im Nanobereich, einschließlich Fotolithographie, verwendet.

Dieser professionelle Spin Coater wurde in Übereinstimmung mit internationalen Teststandards entwickelt und konstruiert.